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Chemical Vapor deposition
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Evaluation of Novel Metalorganic Precursors for Atomic Layer Deposition of Nickel-based Thin Films
Auteur:
M.Sc. Nanoelectronic Systems Varun Sharma (Auteur)
Matière:
Physique - Électrodynamique
Catégorie:
Thèse de Master, 2015
Prix:
US$ 0,-